随着科学技术的发展，对各种原材料的“纯度”要求越来越高。在电子工业中如何正确选用孝感高纯气体？然而，高纯度气体的量通常较小且昂贵。因此，如何正确、恰当地制定原料气的纯度要求以及如何选择高纯度气体已成为一个有争议的问题。妥善处理这一问题将对技术和经济产生深远影响。

一般来说，人们通常使用百分比浓度来表示气体的纯度，即所谓的“9”表达式。例如，99.9%的特定气体浓度表示其含有0.1%的杂质（即杂质含量为1000 ppm）。根据一般概念，很明显，浓度为99.995%的气体比99.99%的气体更纯净，人们似乎更喜欢它。然而，如果纯度的选择仅限于此，这将对科学研究或生产产生负面影响。如果只考虑这些因素，显然忽略了两个主要因素，即高纯度气体的价格和所含杂质的危害性。

我们都知道，价格上涨的速度快于指数增长，气体纯度越高，价格越高，并且随着“9”的增加。

很难获得七种“9”或更多的超高纯度气体。除了在实验室提供零件外，在一般工业生产中很难提供大量零件。因此，数字为“9”的纯气体在一般生产中是完全不可接受的，除非它可以在科学研究中有条件地被接受。

因此，我们应从气体中杂质的浓度和杂质对工艺的危害性的角度选择使用高纯度气体。这是因为很难将气体中的杂质总量降至lppm以下，但重要的是将单个有害杂质降至L×10-9或更低。根据当前工艺水平，硅中的总杂质含量不低于10-8（1ppm）。然而，对磷和硼等有害电活性杂质的单独控制已达到1×10-8～l×10-10。（即o.1o.o1ppb）

因此，国外并不是简单地用几个“9”来表示高纯度气体，而是直接用不同的目的来命名高纯度气体的程度。如光谱纯值、原子平面、电子平面、半导体平面、太阳能电池平面、外延平面、VLSI平面（VLSI平面）、研究平面等。它们仅表示材料水平适合于特定现场站的使用，并不意味着杂质量必须小于某个值。正如化学试剂一般分为G.R.，A.R.，和C.P.，这仅意味着它们的纯度“优异”，“可用于分析”和“只能用于一般化学试剂”。这并不一定意味着材料或试剂的总杂质含量已降低到某个数量级。同一水平的不同材料或试剂中包含的杂质量有时可能会变化几个数量级。根据材料的用途选择材料的纯度，使我们能够选择目标明确的材料，克服盲目性。